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J-GLOBAL ID：200903097207086672

パーティクルモニター装置およびこれを具備した無塵化プロセス装置

Inventor： 上杉 文彦 ,  伊藤 奈津子
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 加藤 朝道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996301361
Publication number (International publication number)：1998010036
Application date： Oct. 25, 1996
Publication date： Jan. 16, 1998
Summary：

【要約】【課題】ウェハ上空間に存在するパーティクルをin-situ・リアルタイムで計測し、パーティクル誘起不良の発生を事前に防止する。【解決手段】プロセス装置12中に浮遊しているパーティクルによるレーリー散乱光やラマン散乱光を受光器13で電気信号に変換し、信号強度判定器14に伝達する。この判定器には、予めパーティクル発生状況とウェハ歩留まりの相関に基づいた散乱光強度が設定されている。得られた散乱光強度と設定値との大小関係に応じて、その状況を信号表示器15またはプロセス制御器16へ伝達し、制御器16は、判定器14での結果に対応した信号をin-situクリーニング器17またはオーバーホール用停止器18に伝え、これらの作動をスタンバイまたは実際に作動させる。

Claim (excerpt)：

光源と、プロセス装置と、前記光源からの光を前記プロセス装置に導入する手段と、前記プロセス装置内からの散乱光または発光を測定する受光手段と、前記受光手段からの信号強度を所定の値と比較して大小を判定する信号強度判定手段と、前記プロセス装置内からの散乱光または発光の強度、又はその強度分布を表示する手段、及び/又は、前記散乱光又は発光を引き起こす物質の大きさ、及び数などの分布状態を表示する手段と、を含むことを特徴とするパーティクルモニター装置。

IPC (4)：

G01N 15/14 ,  G01N 21/21 ,  G01N 21/49 ,  H01L 21/66

FI (4)：

G01N 15/14 D ,  G01N 21/21 Z ,  G01N 21/49 Z ,  H01L 21/66 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-204039
  
• 特開平3-039635
  
• 特開平4-024535