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J-GLOBAL ID:200903097234534288

電解酸化によるオキシ水酸化ニッケルの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002195993
Publication number (International publication number):2003346795
Application date: Jul. 04, 2002
Publication date: Dec. 05, 2003
Summary:
【要約】【課題】 本発明の製造方法は、水酸化ニッケルをアルカリ金属ハロゲン化物存在下で電解酸化することにより、オキシ水酸化ニッケルを得ることを特徴とする。【課題解決手段】 本発明にかかる電解酸化によるオキシ水酸化ニッケルの製造方法は、アルカリ金属のハロゲン化物の水溶液に、水酸化ニッケル粒を添加して攪拌により水酸化ニッケルスラリーとし、アルカリ金属ハロゲン化物存在下の電解酸化により、水酸化ニッケルの一部をオキシ水酸化ニッケルに転換することを特徴とする。
Claim (excerpt):
アルカリ金属のハロゲン化物の水溶液に、水酸化ニッケル粒を添加して攪拌により水酸化ニッケルスラリーとし、電解酸化によりオキシ水酸化ニッケルへ転換させることを特徴とする、オキシ水酸化ニッケルの製造方法。
IPC (2):
H01M 4/52 ,  C01G 53/04
FI (2):
H01M 4/52 ,  C01G 53/04
F-Term (8):
4G048AA02 ,  4G048AB02 ,  4G048AC06 ,  4G048AE06 ,  5H050AA00 ,  5H050CA03 ,  5H050DA02 ,  5H050GA15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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