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J-GLOBAL ID：200903097235669527
光学部品用洗浄剤組成物
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
羽鳥 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992244832
Publication number (International publication number)：1994093295
Application date： Sep. 14, 1992
Publication date： Apr. 05, 1994
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 すすぎ性に優れ、且つ環境汚染の惧れがなく、しかも安全性の高い、光学部品あるいはその製造工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成物の提供。【構成】 (A)化合物I及び(B)化合物IIを含有し、その配合比率(重量比)が(A)成分/(B)成分=90/10〜5/95である。R1(X)R2 I(式中、R1は炭素数1〜24の炭化水素残基を示し、Xは-C(R3)(R4)-,-COO-,-CO-,-O-,-N(R1)-又は-C(=O)-N(R3)-基であり、R2は炭素数3〜18の炭化水素残基を示し、R3及びR4はH又は炭素数1〜18の炭化水素残基を示す。)R(Y)(AO)nR5 II(式中、Rは炭素数1〜8の炭化水素残基を示し、Yは-O-,-COO-,-NH-又はであり、mは1〜20の数を示し、Aは炭素数2〜4のアルキレン基を示し、nは1〜20の数を示し、R5はH又は炭素数1〜8の炭化水素残基を示す。)
Claim (excerpt)：
(A)下記〔化1〕表される化合物及び(B)下記〔化2〕で表される化合物を含有し、上記(A)成分と上記(B)成分との配合比率(重量比)が(A)成分/(B)成分=90/10〜5/95であることを特徴とする光学部品あるいはその製造工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成物。【化1】【化2】
IPC (9)：
C11D 7/60
, C08K 5/06
, C08K 5/07
, C08K 5/10
, C08K 5/17
, C08K 5/20
, C08L 71/02 LQC
, C11D 7:26
, C11D 7:32
