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J-GLOBAL ID：200903097242165267

清浄気体の調製方法および調製装置

Inventor： 藤井 敏昭 ,  鈴木 作 ,  鈴木 英友
Applicant, Patent owner： 荏原インフィルコ株式会社 ,  株式会社荏原総合研究所
Agent (1)： 湯浅 恭三 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993145073
Publication number (International publication number)：1995008752
Application date： Jun. 16, 1993
Publication date： Jan. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 基材または基板表面の汚染を防止するために、基材または基板表面と接触させる清浄気体を調製する方法とそのための装置を提供する。【構成】 被処理気体を除塵手段と吸着手段によって浄化することによって、気体中の微粒子濃度をクラス10以下で非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下とする工程からなり、前記吸着手段は、シリカゲル、合成ゼオライト、モレキュラシーブ、アルミナのうちから選択された少なくとも1種類の吸着材と、ガラス材とフッ素化合物のうちから選択された少なくとも1種類の吸着材とを組み合わせたものである。

Claim (excerpt)：

基材または基板表面の汚染を防止するために前記基材または基板表面と接触させる清浄気体を調製する方法であって、被処理気体を除塵手段と吸着手段によって浄化することによって、気体中の微粒子濃度をクラス10以下で非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下とする工程からなり、前記吸着手段は、シリカゲル、合成ゼオライト、モレキュラシーブ、アルミナのうちから選択された少なくとも1種類の吸着材と、ガラス材とフッ素化合物のうちから選択された少なくとも1種類の吸着材とを組み合わせてなる、清浄気体の調製方法。

IPC (5)：

B01D 53/72 ,  B01D 46/52 ,  B01D 46/54 ,  B01D 53/26 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (2)：

B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/34 ZAB