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J-GLOBAL ID:200903097348636625

平面インダクターおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 武田 元敏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993166868
Publication number (International publication number):1995022242
Application date: Jul. 06, 1993
Publication date: Jan. 24, 1995
Summary:
【要約】【目的】 コイル形状の導線を磁性体で被覆した平面インダクターを量産性良く実現すること。【構成】 第1の磁性体基板(NiZnフェライト基板1)上に磁気空隙(Al2O3膜)を形成した後にコイル形状導線3を形成し、コイル形状導線を覆うように第2の磁性体(NiZnフェライト層4)を形成する。
Claim (excerpt):
第1の磁性体基板上の絶縁体からなる非磁性膜上に形成したコイル形状の導線を絶縁体である第2の磁性体で被覆してなることを特徴とする平面インダクター。
IPC (2):
H01F 17/00 ,  H01F 41/04

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