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J-GLOBAL ID：200903097356551329

表面欠陥検査装置

Inventor： 三橋 秀男
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996009101
Publication number (International publication number)：1997196859
Application date： Jan. 23, 1996
Publication date： Jul. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】 シリコンウエハ等の表面欠陥の検出とその種類の判定を行う。【解決手段】 白色照明光1を分光プリズム2で分光し、集光レンズ4で集光して被検査対象面5に照射すると、被検査対象表5には、異なる波長の光がおのおの異なる角度で照射される。2次元カラーセンサ7は、被検査対象面5を撮像レンズ6を介して撮像し、R,G,Bそれぞれのカラー映像信号ar,ag,abを出力する。このとき、表面が緩やかな傾斜角度を有する欠陥の場合、最も垂直に近い角度で照射された赤色の波長の光のみが撮像レンズ6方向に反射されるので、赤色に撮像されることになる。逆に、大きい傾斜角度を有する欠陥の場合は、最も水平に近い角度で照射された紫色に撮像される。すなわち、各欠陥は、その種類の応じてそれぞれ異なる色で撮像されることになる。そこで、画像処理部8で欠陥の検出を行い、かつ、色情報により欠陥種類の判別を行う。

Claim (excerpt)：

白色照明光を波長毎に連続的に分光する分光手段と、前記分光手段により分光された照明光を集光することで異なる波長の光をおのおの異なる角度で被検査対象面の同一領域に照射する集光手段と、前記被検査対象面を撮像し、複数のカラー映像信号を出力するカラー撮像手段と、前記カラー映像信号を受けて前記被検査対象面の欠陥を検出しかつ欠陥の種類の判別を行う画像処理部とを含むことを特徴とする表面欠陥検査装置。

IPC (2)：

G01N 21/88 ,  H01L 21/66

FI (2)：

G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-213711
  
• 特開昭62-038348
  
• 特開昭60-242308