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J-GLOBAL ID：200903097357927128

溶存水素含有水

Inventor： 森越 範芳 ,  玉田 聡
Applicant, Patent owner： 日立造船富岡機械株式会社
Agent (1)： 飯郷 豊
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001373543
Publication number (International publication number)：2003170178
Application date： Dec. 07, 2001
Publication date： Jun. 17, 2003
Summary：

【要約】【課題】 安価で大量に効率良く生成できる溶存水素含有水を提供する。【解決手段】 容器内の水を攪拌及び/又は循環しながら生成する溶存水素含有水は、1リットル中に少なくとも35μg以上の溶存水素を含むことで、200mV以下に酸化還元電位を低下させることができる。溶存水素量が20ppbを超えるとORPは急激に低下して35ppbで180mV程度に至る。更に溶存水素量を増加させるとORPも徐々に低下して100mV以下に達するがその勾配は極めて緩やかなものとなる。従って溶存水素量の目標値は35ppbを目安とするのが効果的な生成方法である。

Claim (excerpt)：

1リットル中に少なくとも35μg以上の溶存水素を含み、300mV以下の酸化還元電位を有する溶存水素含有水。

IPC (5)：

C02F 1/68 520 ,  C02F 1/68 510 ,  C02F 1/68 530 ,  C02F 1/68 ,  C02F 1/68 540

FI (6)：

C02F 1/68 520 B ,  C02F 1/68 510 B ,  C02F 1/68 530 A ,  C02F 1/68 530 B ,  C02F 1/68 530 L ,  C02F 1/68 540 E