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J-GLOBAL ID:200903097362889390

シリカ粒子およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 拓也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995148859
Publication number (International publication number):1996337413
Application date: Jun. 15, 1995
Publication date: Dec. 24, 1996
Summary:
【要約】【目的】 各種標識材、液晶表示用スペーサなどに有用な比較的大きな粒径を有し、かつ粒径の変動係数の小さいシリカ粒子を工業的に有利に提供すること。【構成】 モノアルキルトリアルコキシシランおよびアルキルシリケート二量体からなる群より選択される少なくとも1種で主としてなるシラン化合物をアルカリ性条件下において加水分解する工程を包含するシリカ粒子の製造方法が提供される。このシリカ粒子の平均粒子径は0.1μmから100μmであり、そして粒子径の変動係数は10%以下である。
Claim (excerpt):
モノアルキルトリアルコキシシランおよびアルキルシリケート二量体からなる群より選択される少なくとも1種で主としてなるシラン化合物をアルカリ性条件下において加水分解・重縮合する工程を包含するシリカ粒子の製造方法であって、該シリカ粒子の平均粒子径が0.1μmから100μmであり、そして粒子径の変動係数が10%以下であることを特徴とする、シリカ粒子の製造方法。

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