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J-GLOBAL ID：200903097367728174

磁気光学体

Inventor： 井上 光輝 ,  藤井 壽崇 ,  高山 昭夫 ,  北村 厚 ,  足立 重之 ,  加藤 英樹
Applicant, Patent owner： ミネベア株式会社
Agent (1)： 萼 経夫 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000232020
Publication number (International publication number)：2001194639
Application date： Jul. 31, 2000
Publication date： Jul. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】 大きな磁気光学効果を得られる磁気光学体を提供する。【解決手段】 (SiO2 /Ta2O5)n 層4及び(Ta2O5 /SiO2)n 層5の間にグラニュラー膜6(グラニュラー磁気光学薄膜)を介装して1次元フォトニック結晶(磁気光学体)1を構成した。グラニュラー膜6は、Coの磁性微粒子7及びこれを取り囲むSm2O3 (希土類酸化物)のマトリックス8からなり、2元ターゲットスパッタ法により、Co及び Sm2O3を交互にスパッタ成膜することにより低温で作製する。グラニュラー膜6を低温で作製しており、高温の熱処理で起こり得る(SiO2 /Ta2O5)n 層4及び(Ta2O5 /SiO2)n 層5の周期構造の乱れを招かない。このため、特定の波長の光に対して強い光の局在化を示すようになり大きな磁気光学効果と高い透過率を示すことになる。

Claim (excerpt)：

異なる光学特性を有する複数種類の誘電体素材の厚さに規則性をもって交互に積層された誘電体多層膜を2つ設け、その間にマトリックス及び磁性微粒子からなるグラニュラー磁気光学薄膜を設けたことを特徴とする磁気光学体。

IPC (6)：

G02F 1/09 505 ,  C23C 14/06 ,  G11B 11/105 506 ,  G11B 11/105 511 ,  H01F 10/08 ,  G02B 27/28

FI (6)：

G02F 1/09 505 ,  C23C 14/06 T ,  G11B 11/105 506 Z ,  G11B 11/105 511 G ,  H01F 10/08 ,  G02B 27/28 A

F-Term (24)：

2H079AA03 ,  2H079AA12 ,  2H079BA02 ,  2H079CA05 ,  2H079DA12 ,  2H079EA11 ,  2H099AA01 ,  2H099BA02 ,  4K029BA02 ,  4K029BA06 ,  4K029BA09 ,  4K029BA12 ,  4K029BA24 ,  4K029BB02 ,  4K029BD12 ,  4K029CA05 ,  5D075FF02 ,  5E049AA01 ,  5E049AA04 ,  5E049AA07 ,  5E049AA09 ,  5E049AC00 ,  5E049BA23 ,  5E049BA29