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J-GLOBAL ID：200903097385574559

オゾン水製造方法及び装置

Inventor： 佐々木 賢一 ,  斉藤 孝行 ,  中島 健 ,  今井 満
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所
Agent (1)： 吉嶺 桂 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995031866
Publication number (International publication number)：1996196879
Application date： Jan. 30, 1995
Publication date： Aug. 06, 1996
Summary：

【要約】【目的】 被処理水中に微細気泡ならびに不純物を含まず、濃度及び流量、圧力を一定に制御した高純度オゾン水の製造方法及び装置を提供する。【構成】 放電型オゾン発生機22で発生させた加圧状態のオゾンガスをテフロン製多孔質中空糸膜6を介して被処理水1に溶解するオゾン水製造装置において、該中空糸膜の上流に中空糸内側の水圧を該オゾンガス圧より高く維持し、その水圧及び流量を制御する無段階可変速制御方式のポンプ3を設けると共に、処理水中のオゾン濃度7をオゾンガス濃度により制御する制御機構21を設けたものであり、前記無段階可変速制御方式のポンプ3を制御は、中空糸膜上流に流量計4及び圧力計5を設け、これらからの出力信号値を演算回路で処理して行うのがよく、また、前記水圧は、オゾンガス圧より0.1kg・f/cm2 以上高くするのがよい。

Claim (excerpt)：

放電型オゾン発生機で発生させた加圧状態のオゾンガスをテフロン製中空糸膜を介して被処理水に溶解するオゾン水製造方法において、中空糸膜内側の水圧をガス圧より高く維持し、被処理水への微細気泡及び不純物の混入を防止すると共に、処理水中のオゾン濃度をオゾンガス濃度に基づき制御することを特徴とするオゾン水製造方法。

IPC (2)：

B01F 1/00 ,  C01B 13/11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-004089
  
• 炭酸ガス溶解方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-009816   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• 気液接触用隔膜、気液接触装置及び気体溶解液体 の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-158541   Applicant：大日本インキ化学工業株式会社