Pat

J-GLOBAL ID：200903097393934386

光学異方素子の製造方法及びそれを用いた液晶表示素子

Inventor： 西浦 陽介
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993253347
Publication number (International publication number)：1995110406
Application date： Oct. 08, 1993
Publication date： Apr. 25, 1995
Summary：

【要約】【構成】 フィルムの両面にせん断力差をつけることによって、フィルムに変形を与える工程を少なくとも2回以上有することを特徴とする、光軸がフィルム面内にもなく法線方向にもない光学異方素子の製造方法。及びそれを用いた液晶表示光学素子。【効果】 TN型液晶表示素子の視野角特性及び色ムラが改善される光学異方素子を提供できる。

Claim (excerpt)：

熱可塑性樹脂からなり、光透過性を有するフィルムの両面にせん断力差をつけることによって、フィルムに変形を与える工程を、少なくとも2回以上有することを特徴とする、光軸がフィルム面内にも法線方向にもない光学異方素子の製造方法。

IPC (2)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510