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J-GLOBAL ID:200903097398776932

塩素の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999026493
Publication number (International publication number):2000281314
Application date: Feb. 03, 1999
Publication date: Oct. 10, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 塩化水素を酸化して塩素を製造する方法であって、活性の高い触媒を使用し、より少量の触媒でより低い反応温度で塩素を製造可能な塩素の製造方法を提供する。【解決手段】 ルテニウム化合物を担体に担持し、これを液相で還元処理する工程を含み、次に酸化して得られる担持酸化ルテニウムであって、担体の単位重量当り、OH基量を0.1×10-4〜30×10-4(mol/g-担体)含有する酸化チタンを担体に使用した担持酸化ルテニウム触媒を使用することを特徴とする。
Claim (excerpt):
塩化水素を酸素によって酸化して塩素を製造する方法であって、次の(1)から(9)の中から選ばれるいずれか1つの触媒を用いる塩素の製造方法。(1)ルテニウム化合物を担体に担持し、これを塩基性化合物で処理する工程及び還元性化合物で処理する工程を含み、次に酸化して得られる担持酸化ルテニウム触媒(2)ルテニウム化合物を担体に担持し、これを還元剤で処理する工程を含み、一旦酸化数1価以上4価未満のルテニウムとした後、酸化して得られる担持酸化ルテニウム触媒(3)ルテニウム化合物を担体に担持し、これを還元性水素化化合物で還元し、次に酸化して得られる担持酸化ルテニウム触媒(4)ルチル結晶系の酸化チタンを含有する酸化チタンを担体に使用した担持酸化ルテニウム触媒(5)ルテニウム化合物を担体に担持し、これを液相で還元処理する工程を含み、次に酸化して得られる担持酸化ルテニウムであって、担体の単位重量当り、OH基量を0.1×10-4〜30×10-4(mol/g-担体)含有する酸化チタンを担体に使用した担持酸化ルテニウム触媒(6)触媒系が、少なくとも下記の(A)及び(B)を含有し、該触媒系における(B)の含有量が10重量%以上である触媒系(A):触媒活性成分(B):200〜500°Cの範囲の少なくとも一点において測定される固相の熱伝導度が4W/m・°C以上である化合物成分(7)細孔半径が0.03マイクロメートルから8マイクロメートルのマクロ細孔である細孔を有する担持酸化ルテニウム触媒(8)担体の外表面に酸化ルテニウムを担持した外表面担持触媒(9)担体に酸化クロムを用いた担持ルテニウム触媒
IPC (2):
C01B 7/04 ,  B01J 23/46 301
FI (2):
C01B 7/04 A ,  B01J 23/46 301 M
F-Term (29):
4G069AA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC58A ,  4G069BC58B ,  4G069BC70A ,  4G069BC70B ,  4G069BD12C ,  4G069CB81 ,  4G069DA06 ,  4G069EA01Y ,  4G069EA04Y ,  4G069EB18Y ,  4G069EC15X ,  4G069EC16X ,  4G069EC17X ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069ED10 ,  4G069FA02 ,  4G069FB39 ,  4G069FB45 ,  4G069FB46
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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