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J-GLOBAL ID：200903097409410218

シリル化装置

Inventor： 上澤 史且
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998145537
Publication number (International publication number)：1999340123
Application date： May. 27, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】 TSI技術を用いたリソグラフィーにおいてはシリル化量の制御性が悪く、寸法精度の良好なマスクパターンを得ることができない。【解決手段】 試料表面に形成された薄膜にシリル化剤を供給することによって薄膜の表面層をシリル化させるためのシリル化装置であり、処理チャンバ11、処理チャンバ11に内設されたステージ13、ステージ13上方に設けられた検出手段15、検出手段15に接続された制御手段17を備えている。処理チャンバ11にはガス導入管19が設けられており、ステージ13上には試料としてウエハWが載置される。検出手段15は、ウエハW表面に形成されたレジスト薄膜のシリル化量を得るものであり、膜厚測定器からなる。制御手段17は、検出手段15で検出されたシリル化量が設定値に達した時点で、ガス導入管19から処理チャンバ11内へのシリル化剤の供給を停止するように構成されている。

Claim (excerpt)：

試料表面に形成された薄膜にシリル化剤を供給することによって当該薄膜の表面層をシリル化させるためのシリル化装置であって、前記薄膜の表面層のシリル化量を得るための検出手段を備えたことを特徴とするシリル化装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/38 512 ,  H01L 21/3065

FI (3)：

H01L 21/30 568 ,  G03F 7/38 512 ,  H01L 21/302 H