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J-GLOBAL ID：200903097441607244

外用組成物

Inventor：
西浜 脩二

About 西浜 脩二

, 
黒沢 麻里

About 黒沢 麻里


Applicant, Patent owner：
株式会社資生堂

About 株式会社資生堂


Agent (1)： 志村 光春
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001243411
Publication number (International publication number)：2003055134
Application date： Aug. 10, 2001
Publication date： Feb. 26, 2003
Summary：
【要約】【課題】肌の凹凸補正効果に優れ、美しい肌質感を演出し、さらに、経時で皮脂や汗でくずれることのない外用組成物を提供すること。【解決手段】下記(1)〜(4)の成分を含有する外用組成物を提供することにより、上記の課題を解決し得ることを見出した。(1)粒径0.1〜100μm のシリコーンゴム球状微粒子にポリオルガノシルセスキオキサン樹脂を被覆してなる、ゴム硬度がJISの規格(A形試験)において10〜80の範囲の複合ポリマー粉末(2)下記式(I)で表されるポリエーテル変性シリコーン【化1】〔式中、Aは、メチル基、フェニル基、並びに、特定のポリオキシアルキレン基からなる群から選択される基であり、Rは、メチル基またはフェニル基であり、mは、50〜1000の整数であり、nは、1〜40の整数である〕(3)一次粒子径が、1〜100nmの微粒子無水ケイ酸(4)シリコーン油
Claim (excerpt)：
下記(1)〜(4)の成分を含有する外用組成物。(1)粒径0.1〜100μm のシリコーンゴム球状微粒子にポリオルガノシルセスキオキサン樹脂を被覆してなる、ゴム硬度がJISの規格(A形試験)において10〜80の範囲の複合ポリマー粉末(2)下記式(I)で表されるポリエーテル変性シリコーン【化1】〔式中、Aは、メチル基、フェニル基、並びに、一般式:-C3 H6 O(C2 H4 O)a (C3 H6 O)b R’(式中、R' は、水素原子、アシル基及び炭素原子数1〜4のアルキル基からなる群から選択される基であり、aは、5〜50の整数であり、bは、5〜50の整数である)で示されるポリオキシアルキレン基からなる群から選択される基である。ただし、3つのAのうち、少なくとも1つはポリオキシアルキレン基であり、Rは、メチル基またはフェニル基であり、mは、50〜1000の整数であり、nは、1〜40の整数である〕(3)一次粒子径が、1〜100nmの微粒子無水ケイ酸(4)シリコーン油
IPC (2)：
A61K 7/00 ,  A61K 7/02
FI (4)：
A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 B ,  A61K 7/00 Z ,  A61K 7/02
F-Term (27)：
4C083AA122 ,  4C083AB052 ,  4C083AB171 ,  4C083AB172 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB432 ,  4C083AC022 ,  4C083AC132 ,  4C083AC342 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AC582 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083AD212 ,  4C083AD242 ,  4C083BB23 ,  4C083BB26 ,  4C083CC03 ,  4C083CC05 ,  4C083CC12 ,  4C083DD31 ,  4C083EE11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
  • 油中水型乳化化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-225812   Applicant：花王株式会社
  • 油中水型乳化化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-225813   Applicant：花王株式会社
  • 油中水型乳化組成物及びこれを用いた乳化化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-047349   Applicant：株式会社資生堂
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