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J-GLOBAL ID：200903097450699933

単分散性共重合体の製造方法

Inventor： 渡辺 修 ,  山田 素行 ,  八木橋 不二夫 ,  五十野 寿信
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 滝田 清暉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992241455
Publication number (International publication number)：1994065325
Application date： Aug. 19, 1992
Publication date： Mar. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】レジスト材料用ポリマーとしての要求性能を充たす、単分散性共重合体の新規な工業的製造方法を提供すること。【構成】下記化1で表されるモノマーとスチレンモノマーとをアニオン重合させた後、-CH2 -O-CH3 で表される基を脱離させることにより、下記化2で表される単位及び下記化3で表される単位からなる共重合体を製造することを特徴とする単分散性共重合体の製造方法。【化1】【化2】【化3】

Claim (excerpt)：

下記化1で表されるモノマーとスチレンモノマーとをアニオン重合させた後、-CH2 -O-CH3 で表される基を脱離させることにより、下記化2で表される単位及び下記化3で表される単位からなる共重合体を製造することを特徴とする単分散性共重合体の製造方法。【化1】【化2】【化3】

IPC (3)：

C08F212/14 MJY ,  C08F 8/12 MGF ,  C08F212/08 MJU