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J-GLOBAL ID：200903097468849509

酸化亜鉛系スパッタリング用ターゲット

Inventor： 町野 毅 ,  杉原 忠
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 富田 和夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992180352
Publication number (International publication number)：1994002130
Application date： Jun. 15, 1992
Publication date： Jan. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置の透明電極、帯電防止導電膜コーティング、ガスセンサーなどに用いられる酸化亜鉛系透明導電膜を短時間のスパッタリングにより形成することのできるスパッタリング用ターゲットを提供する。【構成】 Al、BまたはSiなどの導電活性元素を含有し、相対密度が85%以上ある酸化亜鉛系スパッタリング用ターゲットにおいて、結晶粒の平均粒径が2μm以下の組織を有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

相対密度が85%以上の酸化亜鉛系焼結体からなるスパッタリング用ターゲットにおいて、結晶粒の平均粒径が2μm以下の組織を有することを特徴とする酸化亜鉛系スパッタリング用ターゲット。

IPC (2)：

C23C 14/34 ,  C01G 9/02