Pat

J-GLOBAL ID：200903097475056115

射出成形用ポリスチレン組成物

Inventor： 藤沢 剛士 ,  北川 孝敏
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994061286
Publication number (International publication number)：1995268152
Application date： Mar. 30, 1994
Publication date： Oct. 17, 1995
Summary：

【要約】【構成】 テトラヒドロフラン溶媒を用いてゲルパーミューションクロマトグラフ法で示差角屈折率検出法とレイリー小角散乱法で同時に樹脂成分の分子量を測定した時、10万から200万の分子量範囲で、直鎖標準ポリスチレンを基準とした溶出曲線から求められる分子量Mrとレイリー散乱から求められる絶対分子量Mabsの比、即ちMabs/Mrが1.1以上2以下となる様なポリスチレン単体を99.95から97重量%含み、40°Cでの粘度が60センチストークス以上の流動パラフィンを0.05から3重量%含むポリスチレン組成物【効果】 射出成形における流動特性が優れ、衝撃強度が優れた成形品が得られる。

Claim (excerpt)：

ポリスチレン単体と流動パラフィンとからなるポリスチレン組成物であって、上記ポリスチレン単体はテトラヒドロフラン溶媒を用いてゲルパーミューションクロマトグラフ法で示差角屈折率検出法とレイリー小角散乱法で同時に測定した樹脂成分の分子量が10万から200万の分子量範囲であり、かつ、直鎖標準ポリスチレンを基準とした溶出曲線から求められる分子量Mrとレイリー散乱から求められる絶対分子量Mabsとの比Mabs/Mrが1.1以上2以下であり、しかも、上記ポリスチレン単体が99.95から97重量%含まれ、上記流動パラフィンが40°Cでの粘度で60センチストークス以上であり、かつ、上記流動パラフィンが0.05から3重量%が含まれていることを特徴とする射出成形用ポリスチレン組成物。

IPC (5)：

C08L 25/06 LEF ,  B29C 45/00 ,  C08L 25/06 ,  C08L 91:00 ,  B29K 25:00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-286702
  
• 特開昭59-091143
  
• 特開平2-286702
  
• 特開昭59-091143