Pat

J-GLOBAL ID：200903097491186908

荷電粒子線照射装置

Inventor： 郡司 和弘
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999171915
Publication number (International publication number)：2001006587
Application date： Jun. 18, 1999
Publication date： Jan. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】焦点調整,非点補正、その他手動で調整を行う操作手段の感度を制御することで、不用意な誤操作による好ましくない装置状態の変化を防止し、誤操作から生じる再調整作業を少なくすることで、操作性を向上させた荷電粒子線照射装置を提供する。【解決手段】操作手段の操作感度を、常時、または、現在の装置の状態や操作履歴など特定の条件で、無効または変化するように制御する。

Claim (excerpt)：

試料上に荷電粒子線を照射するために設けた電子光学系と、試料から発生する二次電子やその他の信号を検出する検出系と、検出した信号を表示する表示部と、調整操作を行う一つまたは複数の操作手段とを備え、該操作手段を操作することにより一つまたは複数の所定の調整機能が作動するように構成した荷電粒子線照射装置において、該操作手段の操作量と、該調整機能の作動量の関係を、該操作手段の操作量の累積値または、操作開始からの時間によって可変としたことを特徴とする荷電粒子線照射装置。

IPC (3)：

H01J 37/04 ,  H01J 37/15 ,  H01J 37/28

FI (3)：

H01J 37/04 Z ,  H01J 37/15 ,  H01J 37/28 B

F-Term (7)：

5C030BB07 ,  5C030BC06 ,  5C033FF00 ,  5C033FF06 ,  5C033JJ01 ,  5C033MM01 ,  5C033UU05