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J-GLOBAL ID：200903097512651797

セラミックスの光学的成形法

Inventor：
中村 好男

About 中村 好男

, 
松尾 秀逸

About 松尾 秀逸


Applicant, Patent owner：
東芝セラミックス株式会社

About 東芝セラミックス株式会社


Agent (1)： 赤野 牧子 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994254376
Publication number (International publication number)：1996091940
Application date： Sep. 21, 1994
Publication date： Apr. 09, 1996
Summary：
【要約】【目的】 所定の成形型を要することなく所望形状で成形が可能であり、また、成形後の後加工も最小限に抑えることができるセラミックス成形法の提供。【構成】 (a)セラミックス粉末100重量部、光硬化性を有する結合剤0.5〜50重量部及び溶媒0〜10重量部を含有してなるスラリーを調製する工程、(b)前記スラリーを用い所定厚さのセラミックスラリー層を形成し、光照射して、該スラリー層を硬化させてセラミック硬化層とする工程、及び(c)前記(b)工程で得られたセラミック硬化層上に、前記(b)工程と同様の操作を連続的に所定回数繰返して行う工程により所定形状にセラミック硬化層を順次積層してセラミックス立体形状体を形成することを特徴とするセラミックスの光学的成形法。
Claim (excerpt)：
(a)セラミックス粉末100重量部、光硬化性を有する結合剤0.5〜50重量部及び溶媒0〜10重量部を含有してなるスラリーを調製する工程、(b)前記スラリーを用い所定厚さのセラミックスラリー層を形成し、光照射して、該スラリー層を硬化させてセラミック硬化層とする工程、及び(c)前記(b)工程で得られたセラミック硬化層上に、前記(b)工程と同様の操作を連続的に所定回数繰返して行う工程を有して構成され、前記セラミック硬化層を所定形状に順次積層してセラミックス立体形状体を成形することを特徴とするセラミックスの光学的成形法。
IPC (2)：
C04B 35/622 ,  C04B 35/632
FI (2)：
C04B 35/00 E ,  C04B 35/00 108
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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