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J-GLOBAL ID：200903097525779067

洗浄装置

Inventor： 川上 伸二 ,  河野 研二 ,  宮田 一司 ,  奥脇 東洋治
Applicant, Patent owner： 日立マクセル株式会社
Agent (1)： 高岡 一春
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993248819
Publication number (International publication number)：1995075751
Application date： Sep. 08, 1993
Publication date： Mar. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 被洗浄物を洗浄槽内に収容した洗浄液の中に入れて洗浄する洗浄装置において、洗浄槽内に収容した洗浄液を循環させる手段と、汚染された洗浄液を浄化する手段とを具備させ、洗浄槽内の洗浄液を繰り返し浄化し循環使用できるようにして、洗浄槽内に一度収容した洗浄液で洗浄できる被洗浄物の量を大幅に増やし、洗浄液を節約して有効に活用できるようにする。【構成】 被洗浄物を洗浄槽内に収容した洗浄液の中に入れて洗浄する洗浄装置において、洗浄槽内に収容した洗浄液を循環させる手段と、汚染された洗浄液を浄化する手段とを有する洗浄装置

Claim (excerpt)：

被洗浄物を洗浄槽内に収容した洗浄液の中に入れて洗浄する洗浄装置において、洗浄槽内に収容した洗浄液を循環させる手段と、汚染された洗浄液を浄化する手段とを有することを特徴とする洗浄装置

IPC (2)：

B05C 9/10 ,  B08B 3/04