Pat

J-GLOBAL ID：200903097529836740

温度応答性クロマトグラフィー担体、製造方法及びそれを用いた温度応答性クロマトグラフィー法

Inventor： 岡野 光夫 ,  菊池 明彦 ,  小林 純 ,  秋山 義勝 ,  長瀬 健一
Applicant, Patent owner： 岡野 光夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005291719
Publication number (International publication number)：2007069193
Application date： Sep. 02, 2005
Publication date： Mar. 22, 2007
Summary：

【課題】表面に0〜80°Cの温度範囲内で水和力が変化するポリマーを高密度に固定化した温度応答性クロマトグラフィー担体を提供すること。【解決手段】基材表面に原子移動ラジカル重合開始剤を固定化し、その開始剤から触媒下で原子移動ラジカル法により0〜80°Cの温度範囲内で水和力が変化するポリマーを成長反応させること。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

基材表面に0〜80°Cの温度範囲内で水和力が変化するポリマーが0.08分子鎖/nm2以上の割合で高密度に固定化されていることを特徴とする温度応答性クロマトグラフィー担体。

IPC (5)：

B01J 20/285 ,  G01N 30/88 ,  B01J 20/281 ,  B01J 20/286 ,  G01N 30/54

FI (8)：

G01N30/48 S ,  G01N30/48 G ,  G01N30/48 L ,  G01N30/88 C ,  G01N30/88 J ,  G01N30/88 E ,  G01N30/54 A ,  B01J20/26 L

F-Term (18)：

4G066AA22C ,  4G066AA71C ,  4G066AC02B ,  4G066AC13B ,  4G066AC17B ,  4G066AC33B ,  4G066BA01 ,  4G066BA02 ,  4G066BA09 ,  4G066BA38 ,  4G066CA20 ,  4G066CA54 ,  4G066CA56 ,  4G066DA07 ,  4G066EA01 ,  4G066FA09 ,  4G066GA16 ,  4G066GA32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• グラフト修飾有機多孔質体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-128356   Applicant：オルガノ株式会社
• 特公平6-104061
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Chem.Rev., 2001, vol.101, p.2921-2990