Pat

J-GLOBAL ID：200903097538993742

転写リソグラフィのための透明テンプレートと基板の間のギャップおよび配向を高精度でセンシングするための方法

Inventor： ベイリー,トッド ,  チョイ,ビュン・ジン ,  コルバーン,マシュー ,  スリーニバサン,エス・ブイ ,  ウィルソン,シイ・グラント ,  エッカート,ジョン
Applicant, Patent owner： ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002516600
Publication number (International publication number)：2004505273
Application date： Aug. 01, 2001
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

転写リソグラフィ・プロセスで使用される、テンプレートと基板の間のギャップと配向を高精度で測定する方法が説明されている。本明細書で示すギャップおよび配向測定方法には、広帯域光をベースとした測定技法が使用されている。

Claim (excerpt)：

パターン化されたテンプレートと基板の間の間隙を測定する方法であって、 パターン化されたテンプレートと基板を、パターン化されたテンプレートと基板の間にギャップが生成されるように互いに間隔を隔てて位置決めするステップと、 複数の波長からなる光を、パターン化されたテンプレートと基板に照射するステップと、 パターン化されたテンプレートと基板の表面で反射する光をモニタするステップと、 モニタした光に基づいて、パターン化されたテンプレートの表面と基板の表面の間の距離を測定するステップとを含む方法。

IPC (3)：

G01B11/14 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (3)：

G01B11/14 G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502D

F-Term (15)：

2F065AA06 ,  2F065BB03 ,  2F065CC17 ,  2F065DD03 ,  2F065FF55 ,  2F065GG23 ,  2F065HH08 ,  2F065NN06 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ29 ,  5F046BA02 ,  5F046CB17 ,  5F046DA17 ,  5F046DB08