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J-GLOBAL ID:200903097549073530

半導体集積回路装置およびそれに用いる電極の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 筒井 大和
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994047622
Publication number (International publication number):1995263448
Application date: Mar. 18, 1994
Publication date: Oct. 13, 1995
Summary:
【要約】【目的】 パッケージ基板であるセラミック基板上に形成する突起状電極の位置精度を向上させる半導体集積回路装置とそれに用いる電極の製造方法を提供する。【構成】 突起状電極であるはんだバンプ電極2を介して半導体チップを実装するセラミック基板3と、前記半導体チップを気密封止するキャップとから構成されるフリップチップ方式の半導体集積回路装置であり、はんだペースト8をガラスマスク7などのマスクの孔部7aに充填し、リフローを行い、その後、ガラスマスク7を取り除くことによって、セラミック基板3のスルーホール3a上に前記はんだバンプ電極2を形成するものである。
Claim (excerpt):
半導体素子が突起状電極を介してパッケージ基板に実装される半導体集積回路装置であって、前記突起状電極はマスクから供給されるはんだペーストによって形成されることを特徴とする半導体集積回路装置。
IPC (3):
H01L 21/321 ,  H01L 23/02 ,  H01L 23/12
FI (2):
H01L 21/92 F ,  H01L 23/12 L

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