Pat
J-GLOBAL ID：200903097550781670
新規なモノマー及びこれを用いて得られるポリマー
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998346607
Publication number (International publication number)：1999263754
Application date： Nov. 19, 1998
Publication date： Sep. 28, 1999
Summary：
【要約】【課題】 220nm以下の遠紫外光、特にArFエキシマレーザ光等に対し高い透過性を有し、例えばレジスト組成物用のポリマーとして使用した場合には、エッチング耐性等に優れたレジスト膜が得られるという効果を奏する新規なポリマー及び該ポリマーの原料モノマーとなり得る新規なモノマーの提供。【解決手段】 一般式[1]【化1】(式中、X’は重合性二重結合を有する、置換基を有していても良い環式炭化水素基を表し、Zはスペーサー又は結合手を表し、Rは保護された水酸基を1又は2個有する置換アルキル基又は置換アルケニル基を表す。)で示されるモノマー、及び該モノマー由来のセグメントを構成単位として含んで成るポリマー。
Claim (excerpt)：
一般式[1]【化1】(式中、X’は重合性二重結合を有する、置換基を有していても良い環式炭化水素基を表し、Zはスペーサー又は結合手を表し、Rは保護された水酸基を1又は2個有する置換アルキル基又は置換アルケニル基を表す。)で示されるモノマー。
IPC (9)：
C07C 69/734
, C07D207/404
, C07D307/60
, C07D317/30
, C07D319/06
, C07D319/08
, C08F 32/08
, C08F222:04
, C08F222:40
C07C 69/734 Z
, C07D207/404
, C07D307/60 Z
, C07D317/30
, C07D319/06
, C07D319/08
, C08F 32/08
