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J-GLOBAL ID:200903097567172766
インプリント装置およびアライメント方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長尾 達也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007206093
Publication number (International publication number):2008100507
Application date: Aug. 08, 2007
Publication date: May. 01, 2008
Summary:
【課題】モールドと基板との距離が変化する際に、高精度の位置合わせが可能となるインプリント装置およびアライメント方法を提供する。【解決手段】インプリント装置であって、 モールドを保持する第1の保持部及びパターンが転写される基板を保持する第2の保持部と、 モールド及び基板の位置を特定するマークに、光を照射する第1の照明系と、 モールド及び基板の位置を特定するマークを、第1の観察点及び第2の観察点で結像させる第1の光学系及び第2の光学系と、 第1の光学系と第2の光学系とが共有する結像光学系と、 モールド及び基板の位置を特定するマークを観察する第1の撮像素子及び第2の撮像素子と、 モールド又は基板と、結像光学系との距離の変化によって生じる第1の観察点又は第2の観察点の移動に追随して第1の撮像素子又は第2の撮像素子を移動させる第1の駆動機構又は第2の駆動機構の、少なくとも一方を有する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
インプリント装置であって、
インプリントパターンを有したモールドを保持するための第1の保持部と、
前記モールドと対向して配置され、前記インプリントパターンが転写される基板を保持するための第2の保持部と、
前記モールドの位置を特定するためのマークと、前記基板の位置を特定するためのマークに光を照射するための第1の照明系と、
前記第1の照明系からの光を用いて前記モールドの位置を特定するためのマークを第1の観察点で結像させるための第1の光学系と、
前記基板の位置を特定するためのマークを第2の観察点で結像させるための第2の光学系と、
前記第1の光学系と前記第2の光学系とが共有する結像光学系と、
第1の観察点で結像される前記モールドの位置を特定するためのマークを観察するための第1の撮像素子と、
第2の観察点で結像される前記基板の位置を特定するためのマークを観察するための第2の撮像素子と、
前記モールドと前記結像光学系との距離の変化によって生じる前記第1の観察点の移動に追随して前記第1の撮像素子を移動させる第1の駆動機構、
または、前記基板と前記結像光学系との距離の変化によって生じる前記第2の観察点の移動に追随して前記第2の撮像素子を移動させる第2の駆動機構の少なくとも一方の駆動機構を有することを特徴とするインプリント装置。
IPC (3):
B29C 59/02
, H01L 21/027
, B82B 3/00
FI (3):
B29C59/02 Z
, H01L21/30 502D
, B82B3/00
F-Term (13):
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AP06
, 4F209AQ01
, 4F209AR07
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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米国特許6696220号明細書
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米国特許6529625号明細書
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