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J-GLOBAL ID：200903097610799450
基体表面からの気相ゴミ除去装置及び除去方法並びにプロセス装置及びプロセスライン
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993244992
Publication number (International publication number)：1995096259
Application date： Sep. 30, 1993
Publication date： Apr. 11, 1995
Summary：
【要約】【目的】 いかなる材料から成るゴミに於いても、基体表面上に付着したゴミを、除去出来る気相ゴミ除去装置及び除去方法を提供すること。ゴミ除去工程の自動化、インライン化が初めて、可能になり、製造の高歩留りが期待出きるプロセス装置及びプロセスラインを提供すること。【構成】 気相ゴミ除去装置は、処理槽と、処理槽内において基体を保持する手段と、基体表面に水分濃度100ppb以下のガスを供給する手段と、基体表面にベルヌーイの圧力差を発生させるための手段を備えたことを特徴とする。プロセス装置は、複数の処理槽と処理槽に基体を搬送する手段を有したクラスター方式の基体処理装置において、複数の処理槽の少なくとも1つに上記気相ゴミ除去が組み込まれていることを特徴とする。プロセスラインは、上記気相ゴミ除去装置を少なくとも一部に有することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
少なくとも1つの処理槽と、前記処理槽内において基体を保持する手段と、前記基体表面に水分濃度100ppb以下のガスを供給する手段と、前記基体表面にベルヌーイの圧力差を発生させるための手段とを備えたことを特徴とする基体表面からの気相ゴミ除去装置。
IPC (3)：
B08B 5/02
, H01L 21/3065
, H01L 21/304 341
Cited by examiner (7)
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