Pat
J-GLOBAL ID：200903097618012033
光学マスクおよびその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993273847
Publication number (International publication number)：1995128839
Application date： Nov. 01, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：
【要約】【目的】光透過部側壁により反射して位相が反転した露光光成分によって生じていた光透過部の透過光の強度減衰に対して、これを相殺するよう補正し、光透過部と位相シフト部との透過率の差を解消すること、しかもその為の処置を簡便に行えるようにする【構成】透明基板上に、エッチング停止層、位相シフト層および遮光層を形成し、フォトリソグラフィを応用して遮光層パターンを形成した後に残存するレジストを除去し、次いでフォトリソグラフィを応用して該遮光層パターンへの重ね合わせ露光により位相シフト層パターンを形成する光学マスクの製造方法に関し、位相シフト層パターンの形成後に、該基板に対して酸化処理を施すことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
透明基板上に、エッチング停止層、位相シフト層パターンそして遮光層パターンがこの順に備えられた光学マスクにおいて、露光領域内で位相シフト層パターンまたは遮光層パターンが無い部分のエッチング停止層が、これ以外の領域のエッチング停止層よりも酸素の含有量が多いことを特徴とする光学マスク。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
