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J-GLOBAL ID：200903097622982691

カチオン界面活性剤含有毛髪化粧料

Inventor：
川井 康弘

About 川井 康弘


Applicant, Patent owner：
サンスター株式会社

About サンスター株式会社


Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995254939
Publication number (International publication number)：1997095424
Application date： Oct. 02, 1995
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：
【要約】【課題】 毛髪改質成分を毛髪に十分に吸着させ、優れたコンディショニング効果および整髪効果を毛髪に付与できる毛髪化粧料を提供すること。【解決手段】 特定のカチオン界面活性剤とアニオン性糖類誘導体とを配合してなる毛髪化粧料。
Claim (excerpt)：
式(1):【化1】[式中、R1、R2、R3およびR4のうちの1個は炭素数8〜24のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基またはベンジル基を示し、残余はメチル基または炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基を示し、X1はハロゲン原子を示す]で示される(A)モノ長鎖アルキル型カチオン界面活性剤と、式(2):【化2】[式中、R5、R6、R7およびR8のうちの2個は炭素数8〜24のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基またはベンジル基を示し、残余はメチル基または炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基を示し、X2はハロゲン原子を示す]で示される(B)ジ長鎖アルキル型カチオン界面活性剤とを配合重量比(A):(B)=5:1〜1:1で配合し、かつ式(3):【化3】[式中、R9およびR10は一方が炭素数6〜18のアルキル基、アルケニル基またはアリール基を示し、他方は水素を示す。Gは糖類を示し、nは0〜40の整数である。Qは炭素数2〜4のアルキレン基またはヒドロキシアルキレン基を示す。M1はアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニアまたは炭素数2もしくは3のヒドロキシアルキル基を有する低級アルカノールアミンを示す。]で示されるアニオン性糖類誘導体の1種または2種以上を、カチオン界面活性剤の合計量に対して10重量%以下で、かつ化粧料全量に対して0.001重量%以上配合することを特徴とする毛髪化粧料。
IPC (5)：
A61K 7/06 ,  A61K 7/08 ,  A61K 7/11 ,  C07H 15/08 ,  C07C211/63
FI (5)：
A61K 7/06 ,  A61K 7/08 ,  A61K 7/11 ,  C07H 15/08 ,  C07C211/63
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 糖類のアルケニルコハク酸エステルを含有する化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-227040   Applicant：日澱化學株式会社
  • 特開平4-273806
  • 毛髪用洗浄剤組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-214999   Applicant：サンスター株式会社
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