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J-GLOBAL ID：200903097626748588

研磨装置及び研磨方法、並びに磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体の製造方法

Inventor：
宮本 武美

About 宮本 武美

, 
岩渕 省蔵

About 岩渕 省蔵


Applicant, Patent owner：
ホーヤ株式会社

About ホーヤ株式会社


Agent (1)： 藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000238261
Publication number (International publication number)：2002046065
Application date： Aug. 07, 2000
Publication date： Feb. 12, 2002
Summary：
【要約】【課題】 積層ガラス基板と研磨ブラシ又は研磨パッドとの間に研磨液を効果的に供給できる研磨装置及び研磨方法等を提供する。【解決手段】 中心部に円孔を有する円板状のガラス基板1を複数枚重ねた状態の積層ガラス基板10を回転させ、この積層ガラス基板10の外周端面部分に研磨ブラシ4又は研磨パッドを回転接触させ、前記積層ガラス基板10の外周端面部分に研磨液を供給して研磨を行う研磨方法であって、前記複数枚重ねられた全てのガラス基板1の外周端面部分と研磨ブラシ4又は研磨パッドとの間に常時充分な量の研磨液を介在させた状態で研磨を行う。
Claim (excerpt)：
中心部に円孔を有する円板状のガラス基板を複数枚重ねて保持する保持手段と、該保持手段を回転させる手段と、前記複数枚重ねられたガラス基板の外周端面部分に接触する研磨ブラシ又は研磨パッドと、該研磨ブラシ又は研磨パッドを回転させる手段と、前記複数枚重ねられたガラス基板の外周端面部分に研磨液を供給する研磨液供給手段とを少なくとも備えた研磨装置であって、前記複数枚重ねられた全てのガラス基板の外周端面部分に効果的に研磨液を供給しうる研磨液供給手段を設けたことを特徴とする研磨装置。
IPC (3)：
B24B 55/02 ,  B24B 29/00 ,  G11B 5/84
FI (3)：
B24B 55/02 A ,  B24B 29/00 D ,  G11B 5/84 Z
F-Term (17)：
3C047FF01 ,  3C047FF09 ,  3C047GG03 ,  3C047GG15 ,  3C058AA06 ,  3C058AB04 ,  3C058AB08 ,  3C058AC04 ,  3C058CB01 ,  3C058CB05 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112GA04 ,  5D112GA09 ,  5D112GA10 ,  5D112GA11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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