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J-GLOBAL ID：200903097637999019

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997132307
Publication number (International publication number)：1998319581
Application date： May. 22, 1997
Publication date： Dec. 04, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 高感度で、かつパターン化した場合に良好なプロファイルを有し、テーパー化せず、更に経時安定性、耐熱性、耐ドライエッチング性にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 A)下記式[I]の構造を有する活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物、及びB)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。R1はフェニル基又は置換フェニル基、R2は脂肪族環状アルキル基、置換脂肪族環状アルキル基、R3はアルキル基、置換アルキル基、脂肪族環状アルキル基、置換脂肪族環状アルキル基を表し、Xは非求核性のアニオン残基を表す。

Claim (excerpt)：

A)下記一般式[I] で表される活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物、及びB)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】R1 はフェニル基又は置換フェニル基、R2 は脂肪族環状アルキル基、置換脂肪族環状アルキル基、R3 はアルキル基、置換アルキル基、脂肪族環状アルキル基、置換脂肪族環状アルキル基を表し、Xは非求核性のアニオン残基を表す。

IPC (2)：

G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R