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J-GLOBAL ID:200903097650027697

核酸ポリマーパターン薄膜とその形成方法並びに薄膜 用組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997021477
Publication number (International publication number):1998219008
Application date: Feb. 04, 1997
Publication date: Aug. 18, 1998
Summary:
【要約】【課題】 形状特異性のある核酸ポリマー薄膜を提供する。【解決手段】 核酸ポリマーと疎水性カチオン性界面活性剤との混合により形成したポリイオンコンプレックスを疎水性有機溶媒に溶解し、得られた溶液を固体表面に展開して乾燥し、細線構造や網目構造にパターン化された核酸ポリマーのパターン薄膜を得る。
Claim (excerpt):
核酸ポリマーのパターン化された薄膜であることを特徴とする核酸ポリマーパターン薄膜。
IPC (4):
C08J 5/18 CFJ ,  B29C 41/12 ,  C07H 21/04 ,  G01N 33/543 593
FI (4):
C08J 5/18 CFJ ,  B29C 41/12 ,  C07H 21/04 B ,  G01N 33/543 593
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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