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J-GLOBAL ID：200903097662100055

質量分析スペクトルの解析システム

Inventor： 大嶽 敦 ,  小林 金也 ,  吉成 清美 ,  平林 集 ,  和氣 泉
Applicant, Patent owner： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
Agent (2)： 小川 勝男 ,  田中 恭助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003050485
Publication number (International publication number)：2004257922
Application date： Feb. 27, 2003
Publication date： Sep. 16, 2004
Summary：

【課題】タンデム型質量分析装置における測定スループットの向上と試料同定精度の向上。【解決手段】測定対象となるイオン種の選択と解離および測定をn段階繰り返すタンデム型質量分析装置を用いた質量分析スペクトル解析システムにおいて、MSn-1(n≧2)のスペクトル解析結果の質量電荷比(m/z値)に基づき、MSnで測定すべきイオン種を選定し、これを必要とする数のアミノ酸配列が決定するまで繰り返す。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

質量分析装置の測定対象となる物質をイオン化し、生成したイオン種の中から特定の質量数のイオン種を選択して解離させ、更に、測定対象となるイオン種の選択と解離および測定をn段階繰り返すタンデム型質量分析装置を用いた質量分析スペクトル解析システムにおいて、 n段階目のタンデム質量分析を実施するか否かを、n-1段階目のスペクトル測定により得られた全ての質量対電荷比(m/z)のピークに基づき決定することを特徴とする質量分析スペクトル解析システム。

IPC (2)：

G01N27/62 ,  H01J49/26

FI (2)：

G01N27/62 V ,  H01J49/26

F-Term (2)：

5C038HH11 ,  5C038HH26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 質量分析方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-398185   Applicant：株式会社日立製作所
• 質量分析方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-301740   Applicant：株式会社日立製作所