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J-GLOBAL ID：200903097690023902
露光装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992173780
Publication number (International publication number)：1993343292
Application date： Jun. 08, 1992
Publication date： Dec. 24, 1993
Summary：
【要約】【目的】 投影光学系の歪曲収差を高精度に計測する。【構成】 レチクルR及び投影光学系PLを透過した露光光によりステージ基板21上の十字形パターンWMを照明し、この十字形パターンWM及びレチクルR上の計測用マークRMの像を観察光学系VF等を介して撮像素子40で観察する。照明光学系11,17,19の中に、露光光の主光線の光軸AXに対する傾斜角を補正するための傾斜角補正光学系12を配置して、十字形パターンWMに対する露光光のテレセントリック性を保証する。
Claim (excerpt)：
露光光を発生する光源と、前記露光光を集光してマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを前記露光光のもとでステージ上の感光基板上に転写する投影光学系と、前記照明光学系により前記マスクに照射される前記露光光の主光線の前記照明光学系の光軸に対する傾斜角を部分的に補正する傾斜補正手段と、該傾斜補正手段により前記主光線の傾斜角が補正された前記露光光によって照明された前記マスク上の第1マークと前記傾斜補正手段により前記主光線の傾斜角が補正された前記露光光によって前記マスク及び前記投影光学系を介して照明された前記ステージ上の第2マークとの各マーク像の位置関係を検出する撮像手段と、該撮像手段により検出された各マーク像の位置関係に応じて前記投影光学系の結像特性を制御する結像特性制御手段とを有する事を特徴とする露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
