Pat

J-GLOBAL ID：200903097694864774

ポジ型感放射線性レジスト組成物

Inventor： 中野 律子
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 青木 朗 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992042974
Publication number (International publication number)：1994043649
Application date： Feb. 28, 1992
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】 感放射線性ポジ型レジストの破裂とマイクログルーブの相矛盾する問題を解決すること。【構成】 感光剤とアルカリ可溶性ノボラック系樹脂とを含むポジ型感放射線性レジスト組成物において、該樹脂の一部として又は添加剤として下記一般式:【化1】(式中、R1 ,R2 は水素又はアルキル基Cm H2m+1を表わし、mは1〜5である)で表わされる単位からなる成分を含む。

Claim (excerpt)：

感光剤とアルカリ可溶性ノボラック系樹脂とを含むポジ型感放射線性レジスト組成物において、該樹脂の一部として又は添加剤として下記一般式(I):【化1】(式中、R1 ,R2 は水素又はアルキル基Cm H2m+1を表わし、mは1〜5である)で表わされる単位からなる成分を含むことを特徴とするポジ型感放射線性レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027