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J-GLOBAL ID：200903097722357794

X線分析顕微鏡

Inventor： 川浪 義実 ,  長谷川 正樹 ,  米山 明男
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995331480
Publication number (International publication number)：1997171100
Application date： Dec. 20, 1995
Publication date： Jun. 30, 1997
Summary：

【要約】【課題】平面分解能のより高いX線分析顕微鏡を提供する。【解決手段】電子光学系7の試料4に近い部分の電極15を、X線の集光ミラーを兼ねる形状とし、試料に照射するX線3の強度を高めると共に電子光学系7の作動距離を短くする。【効果】半導体素子等の微細な構造の分析が可能となる。

Claim (excerpt)：

試料にX線を照射する手段と、該試料から発生する電子を結像する電子光学系とを備えたX線分析顕微鏡において、前記電子光学系の一部が、X線の集光ミラーであることを特徴とするX線分析顕微鏡。

IPC (4)：

G21K 7/00 ,  G01N 23/227 ,  G21K 1/06 ,  H01L 21/66

FI (4)：

G21K 7/00 ,  G01N 23/227 ,  G21K 1/06 M ,  H01L 21/66 L