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J-GLOBAL ID:200903097757495197
硫化モリブデンの付着方法
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 政喜 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1997506431
Publication number (International publication number):1999509580
Application date: Jul. 18, 1996
Publication date: Aug. 24, 1999
Summary:
【要約】不平衡なマグネトロン-スパッター-イオン-プレーティング-システムであって、このシステム(10)は硫化金属(例えばMoS2)の第一ターゲット(18)をもつ第一マグネトロン(16)と、金属(例えばチタニウム)の第二ターゲット(22)をもつ第二のマグネトロン(20)をもつ。コーティングチャンバー内壁から水と硫化物の不純物を除去するために、前記金属ターゲットを、コーティング行程前のイオン洗浄工程において通電活性化する。金属原子は不純物を除去し、良好なコーティング、とくに低摩擦のMoS2コーティングを可能とする。多層コーティングのための装置も開示されている。形成された被膜は、低摩擦と、高付着力と、高耐久性をもつ。
Claim (excerpt):
硫化金属の第一ターゲットと、金属の第二ターゲットを持つことを特徴とするスパッター-イオン-プレーティングシステム。
IPC (5):
C23C 14/06
, C01G 39/06
, C23C 14/00
, C23C 14/34
, C23C 28/00
FI (5):
C23C 14/06 D
, C01G 39/06
, C23C 14/00 B
, C23C 14/34 C
, C23C 28/00 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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機械加工用工具
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-295508
Applicant:フイラブアーゲー
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