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J-GLOBAL ID:200903097780462077

下水処理方法及び処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992013443
Publication number (International publication number):1994039368
Application date: Jan. 28, 1992
Publication date: Feb. 15, 1994
Summary:
【要約】【目的】 処理原水中の微細浮遊物質の除去効果が極めて高いろ過工程を、長時間にわたりかつ安定的・連続的に行うことができ、これにより生物処理工程における処理負荷を軽減して、生物処理時間を短縮せしめるとともに生物処理の際の使用エネルギーを低減化し、短時間で効率的に下水処理を行うことのできる下水処理方法および処理装置の提供。【構成】 好気性生物処理プロセスを行う生物処理装置24または嫌気・好気生物処理プロセスを行う生物処理装置52の前段に、ろ過装置23を設け、さらにこのろ過装置23の前段に処理原水と加圧空気溶解水とを混合して、処理原水中の浮遊物質に微細気泡を付着させ、この微細気泡の浮力で浮遊物質を浮上分離することによりこれを除去する浮上分離装置22を設けた。
Claim (excerpt):
下水中の砂及びし渣を除去した後の処理原水と加圧下に空気を高濃度に溶解させた加圧空気溶解水とを大気圧下に混合して、該処理原水中の浮遊物質に該加圧空気溶解水から発生する微細気泡を付着せしめ、該浮遊物質を浮上分離させて該処理原水中から該浮遊物質を除去する分離除去工程と、上記分離除去工程を経て得られた第1前処理水をろ過して、該第1前処理水中に残存する浮遊物質をさらに除去するろ過処理工程と、上記ろ過処理工程を経て得られた第2前処理水中の有機物を微生物による生物学的処理によって分解せしめて該処理水中から有機物を除去する生物処理工程とを有することを特徴とする下水処理方法。
IPC (7):
C02F 1/24 ZAB ,  C02F 1/00 ZAB ,  C02F 3/06 ZAB ,  C02F 3/10 ZAB ,  C02F 3/30 ,  C02F 3/30 ZAB ,  C02F 9/00 ZAB
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 特開平2-031895
  • 特開昭62-171797
  • 特開昭59-186689
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