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J-GLOBAL ID：200903097787295460

ポリマーフィルムの延伸方法、偏光膜、偏光板および位相差膜の製造方法、および液晶表示装置

Inventor：
田口 慶一

About 田口 慶一

, 
坂牧 聡

About 坂牧 聡


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001080744
Publication number (International publication number)：2002086554
Application date： Mar. 21, 2001
Publication date： Mar. 26, 2002
Summary：
【要約】【課題】 偏光板打ち抜き工程や位相差膜打ち抜き工程における得率が高いポリマーフィルムの斜め延伸方法を提供すること、得られた斜め延伸ポリマーフィルムからなる高性能で安価な偏光板、位相差膜を提供すること、及び上記偏光板を用いた液晶表示装置を提供すること。【解決手段】 ポリマーフィルムの一方端の実質的な保持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の軌跡L1及びポリマーフィルムのもう一端の実質的な保持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の軌跡L2と、二つの実質的な保持解除点の距離Wが、下記式(1)を満たし、かつポリマーフィルムの支持性を保ち、揮発分率が5%以上の状態を存在させて延伸したのち、収縮させながら揮発分率を低下させることを特徴とする光学用ポリマーフィルムの延伸方法。式(1) |L2-L1|>0.4W
Claim (excerpt)：
連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持し、該保持手段をフィルムの長手方向に進行させつつ張力を付与して延伸する光学用ポリマーフィルムの延伸方法において、ポリマーフィルムの一方端の実質的な保持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の軌跡L1及びポリマーフィルムのもう一端の実質的な保持開始点から実質的な保持解除点までの保持手段の軌跡L2と、二つの実質的な保持解除点の距離Wが、下記式(1)を満たし、かつポリマーフィルムの支持性を保ち、揮発分率が5%以上の状態を存在させて延伸したのち、収縮させながら揮発分率を低下させることを特徴とする光学用ポリマーフィルムの延伸方法。式(1) |L2-L1|>0.4W
IPC (11)：
B29C 55/10 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510 ,  G02F 1/13363 ,  B29K 1:00 ,  B29K 29:00 ,  B29K 69:00 ,  B29K 81:00 ,  B29K101:00 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00
FI (11)：
B29C 55/10 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510 ,  G02F 1/13363 ,  B29K 1:00 ,  B29K 29:00 ,  B29K 69:00 ,  B29K 81:00 ,  B29K101:00 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00
F-Term (31)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA25 ,  2H049BA27 ,  2H049BB42 ,  2H049BB43 ,  2H049BB44 ,  2H049BB49 ,  2H049BC03 ,  2H049BC09 ,  2H049BC13 ,  2H049BC22 ,  2H091FB02 ,  2H091FC07 ,  2H091GA16 ,  2H091LA12 ,  4F210AA01 ,  4F210AA19 ,  4F210AA28 ,  4F210AA34 ,  4F210AG01 ,  4F210AH73 ,  4F210AR07 ,  4F210QA02 ,  4F210QC09 ,  4F210QD01 ,  4F210QD19 ,  4F210QD25 ,  4F210QG01 ,  4F210QG18 ,  4F210QW17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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