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J-GLOBAL ID：200903097801135438

フォトマスクの欠陥修正方法及び走査プローブ顕微鏡

Inventor： 福上 典仁
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001227214
Publication number (International publication number)：2003043669
Application date： Jul. 27, 2001
Publication date： Feb. 13, 2003
Summary：

【要約】【課題】マスクに形成された残留欠陥修正後の石英基板や欠陥以外の部分へのダメージが無く、500nm以下の残留欠陥を精度良く除去することが可能で、修正のエンドポイントも容易に検出できるフォトマスクの欠陥修正方法及びそれに用いる走査プローブ顕微鏡を提供することを目的とする。【解決手段】透光性基板上に遮光膜パターンが形成されたフォトマスク又は位相シフターパターンが形成された位相シフトマスクに発生した残留欠陥を修正する方法であって、走査プローブ顕微鏡を用いて前記残留欠陥の三次元イメージを取得した後、前記走査プローブ顕微鏡のプローブの荷重値を三次元イメージ取得時よりも大きくした後、前記残留欠陥上をプローブで走査することにより、残留欠陥を除去することを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法及びそれに用いる走査プローブ顕微鏡を提供する。

Claim (excerpt)：

透光性基板上に遮光膜パターンが形成されたフォトマスク又は位相シフターパターンが形成された位相シフトマスクに発生した残留欠陥を修正する方法であって、走査プローブ顕微鏡を用いて前記残留欠陥の三次元イメージを取得した後、前記走査プローブ顕微鏡のプローブの荷重値を三次元イメージ取得時よりも大きくした後、前記残留欠陥上をプローブで走査することにより、残留欠陥を除去することを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 V ,  G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

F-Term (3)：

2H095BB03 ,  2H095BD32 ,  2H095BD40