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J-GLOBAL ID:200903097821082730

パターン形成装置およびパターン形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 松阪 正弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002366189
Publication number (International publication number):2004199975
Application date: Dec. 18, 2002
Publication date: Jul. 15, 2004
Summary:
【課題】適切な形状のパターンを形成するパターン形成装置を提供する。【解決手段】パターン形成装置1は、基板9を保持するステージ3、基板9に向けてパターン形成材料を吐出する吐出部42、吐出されたパターン形成材料にイオンを付与するイオナイザ45、および、基板9上のパターン形成材料の帯電量を測定する電荷測定部46を備える。パターンを形成する際には、まず、イオナイザ45の駆動が開始され、イオンが基板9の表面近傍に供給される。続いて、ステージ3の移動に伴って吐出部42から基板9に向けてパターン形成材料が吐出される。パターン形成材料は帯電した状態にて吐出されるが、イオンにより電荷が除去され、静電気によるパターン形成材料の変形や吐出異常等の発生が抑制される。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、 基板を保持する保持部と、 基板に向けてパターン形成材料を吐出する吐出口が形成された吐出部と、 基板の主面に沿う方向に前記吐出部を前記基板に対して相対的に移動する移動機構と、 吐出されたパターン形成材料から静電気を除去する手段と、 を備えることを特徴とするパターン形成装置。
IPC (6):
H01J9/02 ,  B05C5/02 ,  G09F9/00 ,  H01J11/02 ,  H01L21/02 ,  H05F3/04
FI (6):
H01J9/02 F ,  B05C5/02 ,  G09F9/00 338 ,  H01J11/02 B ,  H01L21/02 Z ,  H05F3/04 Z
F-Term (20):
4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA22 ,  4F041BA32 ,  4F041BA35 ,  5C027AA09 ,  5C040GF19 ,  5C040JA13 ,  5G067AA42 ,  5G067DA14 ,  5G067DA22 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435BB06 ,  5G435HH14 ,  5G435HH18 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10

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