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J-GLOBAL ID：200903097827020663

ポジ型ホトレジスト組成物

Inventor： 細田 浩 ,  平山 拓 ,  萩原 三雄 ,  土井 宏介 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 服部 平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996216911
Publication number (International publication number)：1998048818
Application date： Jul. 31, 1996
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】感度、焦点深度幅特性及び耐熱性がバランスよく優れ、かつプロファイル形状に優れたレジストパターンを形成できるポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂と感光性成分を含有するポジ型ホトレジスト組成物において、前記感光性成分が、下記化1および化2で表されるポリヒドロキシ化合物【化1】【化2】から選ばれる少なくとも1種とキノンジアジドスルホン酸とのエステル化物であることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂と感光性成分を含有するポジ型ホトレジスト組成物において、前記感光性成分が、下記化1および化2で表されるポリヒドロキシ化合物【化1】【化2】から選ばれる少なくとも1種とキノンジアジドスルホン酸とのエステル化物であることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-301847
  
• 特開平4-029242
  
• 特開平4-284454