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J-GLOBAL ID：200903097863536889

荷電粒子による投影リソグラフィー装置

Inventor： ゲルハルト シュテンクル ,  アルフレット チャルプカ ,  ヘルベルト フォナハ ,  ハンス ロエシュナー
Applicant, Patent owner： アイエムエス イオネン マイクロファブルカティオンズシステメ ゲーエムベーハー
Agent (1)： 荒船 博司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996022853
Publication number (International publication number)：1996274020
Application date： Feb. 08, 1996
Publication date： Oct. 18, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 従来よりも映像のための画面(フレーム)が拡大され、映像誤差が減少した投影リソグラフィー装置を提供する。【解決手段】 実質的に点状の粒子源Qと、この粒子源Qから発散性の粒子線の形で特定の種類の荷電粒子を引き出すシステムExと、マスクMまたは基板Sを照射するため、前記発散性粒子線を少くともほぼ平行な粒子ビームに集束する手段とを含み、マスクの後に配置された基板上にマスク構造の投影像を形成するための、荷電粒子による投影リソグラフィー装置であって、前記粒子線を集束する手段が、加速用静電界Eを発生するための電極装置B、E11、E12、E13、...... E1nを有するとともに、その電位Uが、粒子ビームの放射方向に、少くとも部分的に一定の勾配を有し、かつ、粒子ビームの方向に垂直な、少くともビーム横断面内で実質的に一定である。

Claim (excerpt)：

実質的に点状の粒子源(Q)と、この粒子源(Q)から発散性の粒子線の形で特定の種類の荷電粒子を引き出すシステム(Ex)と、マスク(M)または基板(S)を照射するため、前記発散性粒子線を少くともほぼ平行な粒子ビームに集束する手段とを含み、マスクの後に配置された基板上にマスク構造の投影像を形成するための荷電粒子による投影リソグラフィー装置であって、前記粒子線を集束する手段が、加速用静電界(E)を発生するための電極装置(B、B’、E11、E12、E13......E1n)を有するとともに、その電位(U)が、粒子ビームの放射方向に少くとも部分的に一定の勾配を有し、かつ、粒子ビームの方向に垂直な少くともビーム横断面内で実質的に一定であることを特徴とする荷電粒子による投影リソグラフィー装置。

IPC (6)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 506 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/305

FI (7)：

H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 506 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 M ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 551

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特表昭63-502707
  
• 特開昭61-131355
  
• 特開昭63-225464