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J-GLOBAL ID：200903097868338228

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 佐々木 知也 ,  水谷 一良 ,  漢那 慎一
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002239582
Publication number (International publication number)：2004077908
Application date： Aug. 20, 2002
Publication date： Mar. 11, 2004
Summary：

【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ感度及びコントラストに優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。【解決手段】特定構造の繰り返し単位を含有し、質量平均分子量(ポリスチレン換算)が3,000〜50,000で、かつ分散度が1.7以下であり、更に用いる繰り返し単位によって分子量1,000以下の割合が10質量%以下で、かつ残存するモノマーの割合が5質量%以下である、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A1)下記一般式(I)〜(IV)で示される群から選ばれる少なくとも1つの繰り返し単位を含有する、重量平均分子量(ポリスチレン換算)が3,000〜50,000の範囲であり、かつ分散度が1.7以下である、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F7/039 ,  C08F12/22 ,  C08F16/00 ,  C08F20/28 ,  C08F32/00 ,  H01L21/027

FI (6)：

G03F7/039 601 ,  C08F12/22 ,  C08F16/00 ,  C08F20/28 ,  C08F32/00 ,  H01L21/30 502R

F-Term (57)：

2H025AA01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB04T ,  4J100AB07T ,  4J100AB10T ,  4J100AC07T ,  4J100AC53T ,  4J100AD07T ,  4J100AL26R ,  4J100AL26S ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02R ,  4J100BA02S ,  4J100BA02T ,  4J100BA03P ,  4J100BA03T ,  4J100BA04P ,  4J100BA04T ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA06R ,  4J100BA06S ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40T ,  4J100BB01T ,  4J100BB03T ,  4J100BB07T ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BB18S ,  4J100BB18T ,  4J100BC04R ,  4J100BC04S ,  4J100BC04T ,  4J100BC12Q ,  4J100BC12R ,  4J100BC12S ,  4J100BD12 ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA05 ,  4J100DA39 ,  4J100DA61 ,  4J100JA38