塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996196796
Publication number (International publication number)：1998034055
Application date： Jul. 25, 1996
Publication date： Feb. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】レジスト膜、有機樹脂膜、SOG膜などの塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置において、塗布液の使用効率を向上させ該装置の稼働率を向上させることにより、塗布膜形成の費用を削減することを目的とする。【解決手段】基板を2次元的に振動させることにより、基板上に滴下された塗布液に任意の方向に力を作用させて塗布膜を形成する。また、複数のノズルを有する滴下機構により基板上の複数箇所に塗布液を滴下してから塗布膜を形成する。

Claim (excerpt)：

真空チャックなどにより基板をセット可能なステージと、該ステージにセットされた基板上に塗布液を滴下する滴下機構と、前記ステージを2次元的に振動させる振動機構と、を具備したことを特徴とする塗布膜形成装置。

IPC (3)：

B05C 11/08 , G03F 7/16 502 , H01L 21/027

FI (3)：

B05C 11/08 , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 564 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

塗布装置および塗布方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-346141 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
特開昭63-137768

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