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J-GLOBAL ID：200903097898069906

輻射線感受性組成物及びその製造方法

Inventor： ダニエル・ワイ・ペイ ,  ステイーブン・エス・ロドリゴウズ ,  ケビン・ジエイ・チーザム ,  ゲリイ・エス・カラブレス ,  ロジヤー・エフ・シンタ
Applicant, Patent owner： シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
Agent (1)： 川口 義雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993047462
Publication number (International publication number)：1994041493
Application date： Feb. 12, 1993
Publication date： Feb. 15, 1994
Summary：

【要約】【構成】 輻射線感受性組成物、該組成物の使用方法、及び該組成物でコーティングされた基板を提供する。光画像化可能な組成物は、光塩基発生化合物と樹脂結合剤と塩基の存在下に架橋し得る化合物とを含む。好ましい態様によれば、本発明は、光塩基発生化合物と、好ましくはフェノールポリマーから成る樹脂結合剤と、塩基を開始剤として架橋し得る1つまたはそれ以上の活性基を有する架橋剤と、硬化剤とから成るネガ型の水性現像型の光画像化可能な組成物を提供する。【効果】 高解像度のレリーフ像を形成でき、高温でも基板に対する付着力があり、耐熱性、化学的処理薬品に対する耐性を有し、露光後のベーキングが不要で、可撓性のある架橋コーティング層を与える。

Claim (excerpt)：

光塩基発生化合物と樹脂結合剤と塩基の存在下に架橋し得る化合物とを含む輻射線感受性組成物。

IPC (7)：

C09D163/04 JFL ,  C08G 59/40 NKG ,  C08G 59/40 NLE ,  C08L 63/00 NJT ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 ,  H05K 3/28