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J-GLOBAL ID：200903097906573724

分析機器処理装置

Inventor： ジェイムズ・ルドルフ・マイヤー ,  アハティ・カレビ・カンサナホ ,  スティーブン・ピーター・フィッツジェラルド ,  ロバート・イバン・マッコネル ,  ジョン・ビクター・ラモント ,  バイリン・カオ
Applicant, Patent owner： ランドックス・ラボラトリーズ・リミテッド
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999268584
Publication number (International publication number)：2000121646
Application date： Sep. 22, 1999
Publication date： Apr. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】 複数の分析機器を異なるモジュールで同時に処理する装置を提供する。【解決手段】 分析機器処理装置は、複数の処理モジュール(10、13-19)を有する。搬送装置(11、12)は、分析装置を各処理モジュールに搬送する。搬送装置は、分析機器を搬送装置からモジュールに移送し、最初の分析機器が処理モジュールで処理されている際に別の分析機器を搬送装置からモジュールに移送する。制御装置は搬送装置(11、12)の動作を制御する。これにより、各分析機器はモジュール間を予め決められた順序で搬送される。また、複数の分析機器が、異なるモジュールで同時に処理される。

Claim (excerpt)：

分析機器処理装置であって、該システムは、複数の分析機器プロセスモジュールと、搬送装置とを有し、上記搬送装置は、各プロセスモジュールに分析機器を搬送するための分析機器配置アセンブリを有し、上記分析機器配置アセンブリは分析機器を各モジュールに移送し、移送された上記分析機器が処理される間に上記分析機器配置アセンブリが別の分析機器を移送できるようにしてあり、上記システムはまた搬送装置の動作を制御する制御装置を有し、上記分析機器は複数のモジュール間を予め決められた順序で移送され、複数の分析機器が複数のモジュールで同時に処理される、分析機器処理装置。

IPC (2)：

G01N 35/04 ,  G01N 35/02

FI (2)：

G01N 35/04 G ,  G01N 35/02 G