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J-GLOBAL ID：200903097910971009

定着ヒータ、定着装置および画像形成装置

Inventor： 佐藤 幾恵 ,  山川 光明
Applicant, Patent owner： 東芝ライテック株式会社
Agent (1)： 小野田 芳弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994064025
Publication number (International publication number)：1995271218
Application date： Mar. 31, 1994
Publication date： Oct. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は、定着ヒータの反復使用により基板と耐熱樹脂またはチップサーミスタと耐熱樹脂との間での亀裂の発生を防止した定着ヒータ、および、安定した定着ヒータの温度制御が行えなえる定着装置および画像形成装置を提供する。【構成】本発明の定着ヒータは、セラミックスの基板2と、基板2の表面に設けられた抵抗発熱体1と、少なくともそれぞれの一部が基板2の裏面に設けられた一対の第1導体パターン6a、6bと、抵抗発熱体1と熱結合して一対の第1導体パターン6a、6bを橋絡して電気接続し表面の少なくとも一部がセラミックスにより構成されたチップサーミスタ7と、チップサーミスタ7のセラミックスの部位と基板2とに接触して固着され、セラミックスの粒子を含有する耐熱樹脂11とを具備する。

Claim (excerpt)：

セラミックスの基板と;基板の表面に設けられた抵抗発熱体と;少なくともそれぞれの一部が基板の裏面に設けられた一対の第1導体パターンと;抵抗発熱体と熱結合して一対の第一の導体パターンを橋絡して電気接続し、表面の少なくとも一部がセラミックスにより構成されたチップサーミスタと;チップサーミスタのセラミックスの部位と基板とに付着して固着され、セラミックスの粒子を含有する耐熱樹脂と;を具備したことを特徴とする定着ヒータ。

IPC (3)：

G03G 15/20 101 ,  H05B 3/06 ,  H05B 3/20 393

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ヒーター及び定着装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-294360   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開昭58-103102