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J-GLOBAL ID：200903097914680742

電子顕微鏡の校正方法及び電子顕微鏡校正用標準試料

Inventor： 坂上 万里 ,  中川 美音 ,  吉成 淳一 ,  高橋 要
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立サイエンスシステムズ
Agent (1)： 武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001160854
Publication number (International publication number)：2002352764
Application date： May. 29, 2001
Publication date： Dec. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】 標準試料による校正可能な範囲の拡大が充分に得られるようにした電子顕微鏡の校正方法を提供すること。【解決手段】 標準マイクロスケールMの上に、段階的に寸法が異なっている複数の粒子からなる試料A〜Eを分散支持させ、最初、複数の粒子の中の1個の寸法を、標準マイクロスケールMのパターンにより校正して第2の標準試料とした後、前記複数の粒子の中の他の1個の寸法を、前記第2の標準試料により校正して第3の標準試料とし、以後、同じ処理を残りの粒子についても繰り返えすことにより、第2から第nまでの標準試料を求め、これら第2から第nまでの標準試料に前記基準試料のパターンを第1の標準試料として含めた上で、これら第1から第nの標準試料の何れかを用いて校正を行うようにしたもの。

Claim (excerpt)：

既知寸法のパターンを有する基準試料を用い、当該パターンを標準試料として電子顕微鏡を校正する方法において、前記既知寸法から段階的に寸法が異なっている複数の粒子を前記基準試料の観察面に分散支持させ、最初、前記複数の粒子の中の1個の寸法を、前記基準試料のパターンにより校正して第2の標準試料とした後、前記複数の粒子の中の他の1個の寸法を、前記第2の標準試料により校正して第3の標準試料とし、以後、同じ処理を残りの粒子についても繰り返えすことにより、第2から第nまでの標準試料を求め、これら第2から第nまでの標準試料に前記基準試料のパターンを第1の標準試料として含めた上で、これら第1から第nの標準試料の何れかを用いて校正を行うことを特徴とする電子顕微鏡の校正方法。

IPC (5)：

H01J 37/28 ,  G01N 1/00 102 ,  G01N 1/28 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/20

FI (5)：

H01J 37/28 B ,  G01N 1/00 102 B ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/20 Z ,  G01N 1/28 F

F-Term (13)：

2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001FA06 ,  2G001HA13 ,  2G001MA04 ,  2G001SA12 ,  2G001SA30 ,  2G052AA39 ,  2G052GA35 ,  5C001AA08 ,  5C001CC04 ,  5C033FF10