Pat
J-GLOBAL ID:200903097932020296
組織中にEMR処理孤立点の格子を作製するための方法および生成物、ならびにその使用
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (4):
廣江 武典
, 武川 隆宣
, ▲高▼荒 新一
, 西尾 務
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2007507386
Publication number (International publication number):2008500846
Application date: Apr. 01, 2005
Publication date: Jan. 17, 2008
Summary:
【解決課題】組織内に電磁放射線(EMR)処理した孤立点(islet)の格子を作る電磁放射線による組織の処理に関する。また、組織内にEMR処理された孤立点の格子を作るための装置およびシステム、ならびにこれら装置およびシステムの美容および医療応用に関する。【解決手段】電磁放射線を用いて組織を処理し、組織内にEMR処理孤立点を作る方法を開示する。さらに、組織にEMR処理した孤立点の格子を作るための装置およびシステム、ならびにそのような装置およびシステムの美容および医学的応用も開示する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
患者の皮膚の標的領域に処理を施すための装置であって、
a)患者の皮膚近くに置かれた時に、患者の皮膚上の標的処理領域を画定する部分を有するハウジング;および
b)前記標的領域に光学エネルギーを作用させるための、ハウジング内に取り付けられたLEDバーを具備しており、ここで前記LEDバーが患者の皮膚に処理孤立点を創るための光学エネルギーのエミッターを複数具備する、装置。
IPC (1):
FI (3):
A61N5/06
, A61N5/06 E
, A61N5/06 D
F-Term (16):
4C082PA01
, 4C082PA02
, 4C082PA03
, 4C082PC01
, 4C082PC02
, 4C082PE01
, 4C082PE03
, 4C082PE04
, 4C082PE10
, 4C082PL03
, 4C082PL05
, 4C082RA01
, 4C082RC06
, 4C082RC09
, 4C082RE17
, 4C082RE34
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