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J-GLOBAL ID：200903097963375416

偏光分離素子およびその作製方法

Inventor： 腰原 伸也 ,  宮澤 貴士 ,  石川 謙 ,  吉良 満夫
Applicant, Patent owner： 財団法人神奈川科学技術アカデミー
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998230531
Publication number (International publication number)：2000066023
Application date： Aug. 17, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】 紫外領域および可視領域の短波長光を偏光分離することのできる、小型で、且つ軽量な、新しい偏光分離素子、およびその偏光分離素子を容易に作製することのできる作製方法を提供する。【解決手段】 ポリジ-n-ヘキシルシランにより入射光を偏光分離する。

Claim (excerpt)：

ポリジ-n-ヘキシルシランにより入射光を偏光分離することを特徴とする偏光分離素子。

IPC (2)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/18

FI (2)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/18

F-Term (13)：

2H049AA02 ,  2H049AA06 ,  2H049AA12 ,  2H049AA33 ,  2H049AA57 ,  2H049BA02 ,  2H049BA05 ,  2H049BA24 ,  2H049BA45 ,  2H049BA47 ,  2H049BC03 ,  2H049BC04 ,  2H049BC08